2025國際顯示技術大會拉開帷幕

　　3月22日，2025國際顯示技術大會(ICDT)在廈門佰翔會展中心隆重開幕。自2017年首屆大會成功舉辦以來，ICDT已成為全球顯示技術領域的年度盛會，吸引了來自世界各地的顯示技術精英齊聚一堂。辰顯光電作為Micro-LED領軍企業(yè)，受邀參加本屆大會，致力于推動顯示技術的國際交流與合作，助力中國顯示技術從跟進、同步到引領的變革。

　　全球首發(fā) Micro-LED新品「幻境InviLux」

　　3月23日，辰顯光電在ICDT展會上重磅發(fā)布了全球首款TFT基Micro-LED紋理屏——「幻境InviLux」。 這款創(chuàng)新產(chǎn)品采用了微納紋理覆層技術，能夠呈現(xiàn)木紋、大理石紋、金屬紋等多種紋理效果，并支持客制化設計，使其不僅是一塊屏幕，更可以化身為墻面、家具或藝術裝置，完美融入各類場景。與傳統(tǒng)屏幕在息屏狀態(tài)下的“黑塊”視覺割裂感不同,「幻境InviLux」 在開機時呈現(xiàn)鮮亮畫面，關機時則與背景無縫融合。辰顯光電通過這款產(chǎn)品，再次彰顯了其在顯示技術領域的創(chuàng)新實力與對用戶需求的深刻洞察。

　　辰顯光電：開放合作，引領技術前沿

　　在同期舉辦的“第五屆Micro/Mini LED顯示關鍵技術路線研討會”上，辰顯光電副總經(jīng)理兼CTO曹軒博士深入探討了 Micro-LED封裝拼接的技術挑戰(zhàn)，以及辰顯光電在這一領域的最新項目進展。

　　曹軒博士指出拼接縫隙是影響TFT基Micro-LED拼接屏視覺效果的一個重要因素。辰顯光電通過建立拼接光學表征標準，優(yōu)化邊緣像素結構，采用玻璃側壁保護工藝和封裝材料優(yōu)化等手段，將拼縫寬度控制在20微米以內，實現(xiàn)了近乎無縫的視覺效果。

　　而視角分屏問題是由于不同屏體的LED光形差異較大所導致的。這一問題的根源在于LED芯片制造過程中量子點厚度均勻性和芯片刻蝕控制的不一致性。辰顯光電通過優(yōu)化外延生長工藝、芯片刻蝕工藝以及采用Micro-Lens結構設計等手段，有效解決了這一問題。經(jīng)過校準后，TFT基Micro-LED拼接屏在正視角和側視角下均能保持一致的畫面效果。

　　辰顯光電持續(xù)引領Micro-LED技術革新與產(chǎn)業(yè)布局

　　本次展會上，辰顯光電還展示了88英寸P0.5 TFT基Micro-LED拼接屏、全球首款TFT基Micro-LED透明屏等豐富產(chǎn)品，讓行業(yè)看見辰顯在Micro-LED領域領先的技術能力。辰顯光電堅信，Micro-LED顯示技術將以卓越的性能和廣泛的應用場景，引領顯示技術的新一輪革命，為全球顯示行業(yè)帶來更多可能性。